天博综合在实际生产和实验中，等离子清洗设备一些重要的部件会随着使用时间的推移产生不同程度的氧化、老化天博综合、腐蚀等问题，会是引起等离子清洗设备达不到除胶效果的原因，例如反应腔、电极、托板架、气体的压力等。以下介绍了几个关键部位保养前后的效果以及如何进行保养。
1.等离子清洗机除胶时产生的污物大部分都接近电子级别天博综合，会随着真空泵排除。但也会有一些大颗粒污染物产生。这些大颗粒污物会附着在腔壁、电极和托板架上。
2.对于腔壁用不可掉落的毛刷清洁使颗粒粉尘异物在腔壁脱落，用吸尘机将污物吸出。用脱脂布沾酒精擦拭，其次腔体导入N2
1.托板架和电极长时间使用后会附着氧化层，同时采用等离子体处理烃基材料时天博综合，一段时间后在托板架、电极，RF导电杆上会积累一层薄的烃基残留物，这些残留物和
氧化层是无法用酒精擦拭掉的。应依据附着物的量对电极、托板架进行翻新维护能保证除胶的稳定。
2.清洗材料要求：氢氧化钠、硫酸、城市用水和蒸馏水。注意：不要使用手磨机、砂纸或磨蚀性喷砂处理等机械方法清洁；氢氧化钠溶液会与铝发生剧烈的化学反应，
应小心谨慎以确保仅在所需的时间内清除沉积物；反应中会生成具有潜在爆炸性的氢气，因此工作区域应保持良好的通风。
将拆下的电极沉浸在10%的氢氧化钠溶液内。在沉浸时每2 min检查电极一次，直到除 去残留物。实际清洁时间取决于积累在每个电极上的残留物数量。用城市用水彻
将电极浸在硫酸和水（按重量为 5%）的溶液中一分钟（不能干燥）后天博综合，立即进入下一步操作（这一步主要去除氧化层，干燥以后氧化层会再次附着，难以冲洗）用蒸馏水
等离子设备在使用过程中，腔体内出现的一些残留物和氧化层，在前期发展阶段，该薄层并不影响设备的运行或成品。但是经过持续的运转后，发现了除胶效果不稳定，能
察觉到微小改变，所以在使用一段时间之后是需要将托板架与电极进行清洗翻新。
同时设备出现的故障也直接体现设备的保养的程度。如经适当的维修、翻新，电极的使用寿命可达到预期使用的值。那么通过等离子清洗设备的原理和构成制定可行性
等离子设备的三大条件是真空环境（真空机组，真空检测仪，腔体的密闭）、高能量（射频电源、温度、工艺气体）和介质（腔体、电极、托板架）组成。那么等离子设备
的保养应从以上这些方面进行，根据保养项目划分周期分为每日天博综合、每周、每月、半年、每年、2~3年。
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